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等離子體表面清洗是指通過等離子體與材料表面的油脂、氧化物等產生一系列物理、化學作用，從而揮發和清除污染物，但材料的整體結構和性能保持原狀不受影響。

等離子體表面清洗技術起源于20世紀初，已運用于各種電子元器件的制造過程中，促進了現代電子通訊業的發展。物質通常以肉眼可見的固態、液態、氣態三種形態存在，但在一些特殊情況下，還存在著不同于常見的固液氣三態的物質：（1）高速運動著的電子；（2）處于激發過程中的中性原子、分子、原子團(自由基)；（3）離子化的原子、分子；（4）分子解離反應過程中生成的紫外線；（5）未反應的分子、原子等。這些物質雖然存在的狀態比較復雜，但總體上仍然處于電中性狀態，這些特殊的物質形態，就稱為等離子體狀態，又稱為物質的第四態。在地球大氣中的電離層和太陽表面存在有等離子體，用人工方法也可獲得等離子體，如將處于低氣壓狀態的氧氣、氮氣、水蒸汽等氣體分子置于高頻電場中，產生輝光放電，其中高速運動的原子、分子、電子和帶有正負電荷的原子及分子互相碰撞，結果又激發出電子，而本身又處于激發狀態或離子狀態，此時的狀態就是人工制造的等離子體狀態。簡單地說，等離子體就是一團由正離子、電子、自由基和中性氣體原子所組成的會發光的氣體團。

等離子體表面清洗技術原理：

等離子體清洗時與材料表面發生兩種主要的反應，一是利用自由基與表面做化學反應，在壓力比較高時，對自由基的產生有利，此時化學反應起主導作用；二是利用離子與表面做物理反應，即進行純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著的原子打掉，離子的能量越高，撞擊效果越好，在壓力較低的情況下，物理撞擊將是主要的。

此外，等離子體中自由基的存在對于清潔效果起著非常重要的作用，因為它們可以與物體表面發生化學鏈式反應，產生新的自由基或進一步降解，可能降解成小的揮發性顆粒清除污染物。而且紫外線具有強大的光能和穿透能力，可以穿透材料表面幾微米的深度，產生新的自由基，從而使附著在表面的材料分子鍵溶解的效果。

等離子體表面清洗技術作為一種清潔的干式工藝，不需要液體化學材料，省去了很多繁瑣的操作及后續處理，運行費用低，清洗后不必再對被處理材料進行干燥處理，整個過程幾分鐘就可完成，其最大的特點就是對待處理的材料沒有特殊要求，在清洗處理的同時還能改善材料本身的表面特性。